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描述：H 型光電反應釜此裝置能夠?qū)崿F(xiàn)控溫耐高壓操作，耐壓 10MPa，采用 316L 不 銹鋼釜體，內(nèi)部與溶液可能接觸的部位噴涂 PFA，保證了耐高溫<200℃；溫度控制采用的夾 層水浴或油浴控制，熱傳導速度快。
項目 | 參數(shù) |
光電反應釜 | 316L 耐腐蝕不銹鋼，內(nèi)部全部噴涂 PTFE H 型雙室反應體系，單室可單獨使用，單室容積 100ml |
耐壓 | <10MPa，含進出氣體閥門 |
溫度 | <100℃（水浴控溫），<200℃(油浴控溫)，控溫精度 0.1℃釜體內(nèi)部 標配控溫夾層，內(nèi)部測溫采用 Pt100，含溫度顯示表；通水孔 12mm |
電極 | PEEK 三電極（標配），選配進口耐高溫耐壓參比電極 |
通光孔 | Φ40mm，藍寶石（全光譜高透），雙通光孔 |
要求離子膜規(guī)格 | 直徑 50mm |
閥門 | 巖征儀器高溫高壓針閥 |
密封 | 耐高溫密封圈 |
光源（選配） | 氙燈光源、LED 光源、汞燈光源 |
控溫循環(huán)機 （選配） | 循環(huán)控制系統(tǒng) |
